El primer lugar del certamen internacional se lo llevó la colombiana Elena Ospina con su obra América. El comité de selección valoró cómo la composición del dibujo retrata la capacidad de las ambiciones geopolíticas para romper acuerdos y derechos inalienables entre las naciones, transformando una zona de paz en un campo de batalla.
El segundo puesto fue para el artista visual chino Juan Suhai con Variación. No solo destacó por su técnica de dibujo, sino por el peso, el ingenio y la expresividad de las palabras "similar a misil" que aparecen en la pieza. El tercer lugar correspondió al venezolano Iván Lira, cuya obra en redos refleja la dominación de la tecnología sobre la sociedad.
Con mención especial se alzó el azerbaiyano Seirán Calferli. Su obra sin título aborda con ironía la relación entre el poder y el abuso del mismo en las dinámicas sociales. La muestra central, plato fuerte de la programación, quedó reducida a 61 piezas de 24 naciones tras un riguroso proceso de selección. La segunda edición de la Bienal se extiende hasta el 14 de junio en varias subsedes de la capital cubana.
